耗蝕性雷射釋放材料應用於RDL優先扇出封裝優勢- 電子技術設計

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WLFO製程已經針對商業經營化部署多年,採用簡單的單晶片設計,重構晶圓一側的單個製作導線重新分佈層(RDL),以及厚式重構晶圓組的稀薄矽 ... 4/14&4/16研討會熱烈報名中!>> X »»耗蝕性雷射釋放材料應用於RDL優先扇出封裝優勢 耗蝕性雷射釋放材料應用於RDL優先扇出封裝



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